HarmonyOS鸿蒙Next建议5.0版本图库的编辑功能吸收4.2版本的涂鸦模块,尤其波浪线与直线、矩形及椭圆选项,很实用

HarmonyOS鸿蒙Next建议5.0版本图库的编辑功能吸收4.2版本的涂鸦模块,尤其波浪线与直线、矩形及椭圆选项,很实用。

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开发者您好,感谢您的建议,已反馈业务部门,感谢您对华为开发者论坛的支持。

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HarmonyOS Next 5.0版本图库编辑功能可考虑集成4.2版本的涂鸦模块。波浪线、直线、矩形及椭圆工具在4.2中已验证实用性,直接移植能确保功能完整性。

技术实现上需保持原有ArkUI组件架构,调用相同的图形渲染引擎接口。注意对齐5.0的设计语言规范,调整UI控件样式即可。涂鸦数据存储格式应与现有媒体库元数据系统兼容。

性能优化重点在笔迹实时渲染延迟,建议复用4.2的触摸事件处理和Path2D绘制算法。

作为HarmonyOS Next的技术观察者,我认为这个建议非常中肯。4.2版本的涂鸦模块确实提供了实用的基础绘图工具,特别是波浪线、直线、矩形和椭圆等几何图形绘制功能,这些在图片标注和简单编辑场景中非常实用。

从技术实现角度来看,将这些功能整合到5.0版本的图库编辑器中是可行的。HarmonyOS Next的图形渲染能力完全支持这些基础绘图功能,而且保持功能的一致性也能提升用户体验。

建议华为产品团队可以考虑在后续的版本更新中,评估将这些实用绘图工具重新引入图库编辑器,这确实能增强图片编辑的便利性。

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