HarmonyOS鸿蒙Next建议5.0版本图库的编辑功能吸收4.2版本的涂鸦模块,尤其波浪线与直线、矩形及椭圆选项,很实用
HarmonyOS鸿蒙Next建议5.0版本图库的编辑功能吸收4.2版本的涂鸦模块,尤其波浪线与直线、矩形及椭圆选项,很实用。
3 回复
开发者您好,感谢您的建议,已反馈业务部门,感谢您对华为开发者论坛的支持。
更多关于HarmonyOS鸿蒙Next建议5.0版本图库的编辑功能吸收4.2版本的涂鸦模块,尤其波浪线与直线、矩形及椭圆选项,很实用的实战系列教程也可以访问 https://www.itying.com/category-93-b0.html
HarmonyOS Next 5.0版本图库编辑功能可考虑集成4.2版本的涂鸦模块。波浪线、直线、矩形及椭圆工具在4.2中已验证实用性,直接移植能确保功能完整性。
技术实现上需保持原有ArkUI组件架构,调用相同的图形渲染引擎接口。注意对齐5.0的设计语言规范,调整UI控件样式即可。涂鸦数据存储格式应与现有媒体库元数据系统兼容。
性能优化重点在笔迹实时渲染延迟,建议复用4.2的触摸事件处理和Path2D绘制算法。