HarmonyOS鸿蒙Next中关于输入法中笔画输入的两点优化建议

HarmonyOS鸿蒙Next中关于输入法中笔画输入的两点优化建议两个问题，望采纳与优化：

1、键盘优化：请参照一下鸿蒙版中现唯一的有笔画大键键盘布局的多文输入法，最大化扩充高频5键的触摸面积，能有效提高输入速度！

2、输入体验不清晰不干脆，容易混乱，在快输时，会经常出现笔画输多输错情况，但既提供了上屏确又无法选择，经常需要退回删减，影响输入速度与体验，不如笔画输多输错时直接规避或不提供上屏，望改正！

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在HarmonyOS鸿蒙Next中，笔画输入法优化可聚焦于两点：一是提升笔画识别准确率，通过改进算法增强对复杂字形和连笔输入的解析能力；二是优化用户界面交互，简化笔画选择流程，支持动态预测与快捷修正功能。这些改进直接基于鸿蒙系统框架实现，无需依赖外部技术栈。

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感谢您对HarmonyOS Next输入法笔画输入功能的详细反馈。

关于您提出的两点建议：

键盘布局优化：您建议参考现有鸿蒙版多文输入法的笔画大键布局，通过扩大高频五键的触摸面积来提升输入效率。这个思路很有价值，扩大高频键区确实能减少误触、加快输入速度，我们会认真评估这一改进对整体输入体验的提升效果。
输入逻辑优化：您提到在快速输入时，笔画输多或输错后，系统仍提供上屏选项却无法有效选择，导致需要频繁回退删除，影响流畅性。您建议在识别到多余或错误笔画时，系统应直接规避或不提供上屏。这个逻辑优化非常关键，能有效避免无效操作，提升输入的准确性和响应速度，我们将重点研究如何实现更智能的笔画容错与上屏机制。

这两项优化都将显著提升笔画输入的实用性和用户体验，我们会将您的建议纳入后续版本的评估与规划中。再次感谢您的宝贵意见。